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　　为了使每层的电路相互之间不发生干涉，需要对上下平台进行精密运动控制。扫描时上下平台应处于匀速运动阶段。目前  小的层叠误差小于2nm（单个机器内）或3nm（不同机器间）。

　　光源的波长一般为365、248、193、157甚至13.5nm（EUV，ExtremeUltraviolet）。因为光刻过程受到衍射限制，光源波长越小，能够做出的芯片尺寸就越小。

　　在透镜和晶圆之间加入折射率大于1的液体（如水），可以减小光线波长，从而提高NA（数值孔径）和分辨率。这种光刻机叫浸润式（immersion）光刻机

　　世界上做高端光刻机的厂家主要有ASML、Nikon和Canon。佳能大概已经不行了。Nikon每年开个会叫做LithoVision。

　　专家预测，受到需求和产业规模持续增长的推动，中国IC电子元器件行业市场规模将继续增长。预计到2028年和2031年，行业市场规模将分别达到新的高点，显示出未来几年市场规模的平均增长率将保持在一个较高水平.

　　IC电子元器件行业的发展前景广阔，具有巨大的增长潜力。随着产业链的不断完善和技术水平的稳定发展，新企业的不断涌现，IC电子元器件产业的投资价值被认为较高.

　　通信:通信基础建设不断完善，5G 技术落地仍有较大发展空间

　　我国通信基础设施建设历经多年沉淀积累，已较为完善，2021 年末全国移动通信基站总数达 996 万个。5G 技术方面，2021 年末已开通 5G 基站 142.5 万个，当年新增5G 基站 65 余万个。但当前 5G 技术广泛应用仍有较大发展空间；尤其在成本方面，现阶段 5G 模组仍处于千元价位，高价制约了终端产品的性，使得下游需求碎片化、形成规模效应，单一市场规模需求不足。电子元器件分销商在此背景下的“纽带”作用进一步凸显，通过为下游电子信息制造业企业提供技术服务，帮助上游原厂了解下游 5G 技术落地需求、帮助下游客户降低 5G 模组采购成本，从而实现 5G 技术的广泛应用，推动产业技术升级。 

　　集成电路的制造

　　首先我们知道，光刻的大致流程是，一个晶圆（wafer）（通常直径为300mm）上涂一层光刻胶，然后光线经过一个已经刻有电路图案（pattern）的掩膜版（maskorreticle）照射到晶圆上，晶圆上的光刻胶部分感光（对应有图案的部分），接着做后续的溶解光刻胶、蚀刻晶圆等处理。然后再涂一层光刻胶，重复上述步骤几十次，以达到所需要求。

　　简化结构请看下图。掩膜版和晶圆各自安装在一个运动平台上（reticlestageandwaferstage）。光刻时，两者运动到规定的位置，光源打开。光线通过掩膜版后，经过透镜，该透镜能够将电路图案缩小至原来的四分之一，然后投射到晶圆上，使光刻胶部分感光。

　　中国IC电子元器件行业市场规模分析

　　2023年以来，来影响趋于减退，GDP 增速明显修复，略高于市场预期。在此契机下，IC电子元器件行业也得到了良好发展，2021年我国IC电子元器件行业的市场规模达到**亿元，2022年市场规模为**亿元，增速**%，2023年我国IC电子元器件行业的市场规模达到**亿元。