真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且***终沉积在基片表面，经历成膜过程，***终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

　　根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、离子镀、磁控反应溅射、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度:普通可调及变频调速等。

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