枣庄单节锂电充电芯片推荐厂家

　　锂电池保护芯片的作用

　　锂电池保护芯片工作原理中的主要元器件的介绍:

　　1、IC:它是保护芯片的核心，首先取样电池电压，然后通过判断发出各种指令。MOS管:它主要起开关作用

　　2、保护芯片正常工作:保护芯片上MOS管刚开始可能处于关断状态，磷酸铁锂电池接上保护芯片后，必须先触发MOS管，P+与P-端才有输出电压，触发常用方法——用一导线把B-与P-短接。

　　3、保护芯片过充保护:在P+与P-上接上一高于电池电压的电源，电源的正极接B+、电源的负极接B-，接好电源后，电池开始充电，电流方向如图所示的I1的流向电流从电源正极出发，流经电池、D1、MOS2到电源负极，IC通过电容来取样电池电压的值，当电池电压达到4.25v时，IC发出指令，使引脚CO为低电平，这时电流从电源正极出发，流经电池、D1、到达MOS2时由于MOS2的栅极与CO相连也为低电平，MOS2关断，整个回路被关断，电路起到保护作用。

　　4、保护芯片过放保护:在P+与P-上接上一合适的负载后，电池开始放电其电流方向如I2，电流从电池的正极经负载、D2、MOS1到电池的负极，（这时MOS2被D2短路）；当电池放电到2.5v时IC采样并发出指令，让MOS1截止，回路断开，电池被保护了。

　　PCB设计中消除电源噪声的方法有如下几种。注意板上通孔:通孔使得电源层上需要刻蚀开口以留出空间给通孔通过。而如果电源层开口过大，势必影响信号回路，信号被迫绕开，回路面积增大，噪声加大。同时如果一些信号线都集中在开口附近，共用这一段回路，公共阻抗将引发串扰。连接线需要多的地线:每一信号需要有自己的专有的信号回路,而且信号和回路的环路面积尽可能小,也就是说信号与回路要并行。模拟与数字电源的电源要分开:高频器件一般对数字噪音敏感，所以两者要分开，在电源的入口处接在一起，若信号要跨越模拟和数字两部分的话，可以在信号跨越处放置一条回路以减小环路面积。用于信号回路的数模间的跨越。

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　　增加剂——增加剂的首要成份是应力消除剂，应力消除剂的参加，改进了镀液的阴化，下降了镀层的内应力，随着应力消除剂浓度的改变，能够使镀层内应力由张应力改变为压应力。常用的增加剂有:萘磺酸、对甲苯磺酰胺、糖精等。与没有去应力剂的镍镀层比较，镀液中参加去应力剂将会取得均匀详尽并具有半亮光的镀层。通常去应力剂是按安培一小时来增加的（现通用组合增加剂包含防针孔剂等）。潮湿剂——在电镀进程中，阴上分出氢气是不可避免的，氢气的分出不只下降了阴电流效率，并且由于氢气泡在电外表上的停留，还将使镀层呈现针孔。镀镍层的孔隙率是比较高的，为了削减或避免针孔的发生，应当向镀液中参加少量的潮湿剂，如十二烷基硫酸钠、二乙基已基硫酸钠、正辛基硫酸钠等，它是一种阴离子型的外表活性物质，能吸附在阴外表上，使电与溶液间的界面张力下降，氢气泡在电上的潮湿接触角减小，从而使气泡简单脱离电外表，避免或减轻了镀层针孔的发生。

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　　半水清洗主要采用有机溶剂和去离子水，加一定量的活性剂、添加剂组成的清洗剂。这种清洗介于溶剂清洗和水清洗之间。这些清洁剂是有机溶剂，易燃溶剂，闪点高，毒性低，使用，但用水冲洗，然后晾干。水净化技术是未来清洁技术的发展方向，建立纯水水源和排放水处理车间是必要的。以水为清洗介质，在水中加入表面活性剂、助剂、缓蚀剂和螯合剂，形成一系列水基清洗剂。可以除去水溶剂和非性污染物。用于焊接过程中无清洁助焊剂或无清洁锡膏，焊后直接进入下一工序清洗，免费清洗技术是目前most常用的一种替代技术，尤其是移动通讯产品基本上是一次性使用的方法来代替ODS。溶剂清洗主要用于溶剂溶解去除污染物。溶剂清洗由于其挥发快、溶解性强等特点，要求设备简单。

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