阳泉高耐压锂电充电芯片生产厂家哪家好

　　锂电池保护芯片的作用

　　锂电池保护芯片工作原理中的主要元器件的介绍:

　　1、IC:它是保护芯片的核心，首先取样电池电压，然后通过判断发出各种指令。MOS管:它主要起开关作用

　　2、保护芯片正常工作:保护芯片上MOS管刚开始可能处于关断状态，磷酸铁锂电池接上保护芯片后，必须先触发MOS管，P+与P-端才有输出电压，触发常用方法——用一导线把B-与P-短接。

　　3、保护芯片过充保护:在P+与P-上接上一高于电池电压的电源，电源的正极接B+、电源的负极接B-，接好电源后，电池开始充电，电流方向如图所示的I1的流向电流从电源正极出发，流经电池、D1、MOS2到电源负极，IC通过电容来取样电池电压的值，当电池电压达到4.25v时，IC发出指令，使引脚CO为低电平，这时电流从电源正极出发，流经电池、D1、到达MOS2时由于MOS2的栅极与CO相连也为低电平，MOS2关断，整个回路被关断，电路起到保护作用。

　　4、保护芯片过放保护:在P+与P-上接上一合适的负载后，电池开始放电其电流方向如I2，电流从电池的正极经负载、D2、MOS1到电池的负极，（这时MOS2被D2短路）；当电池放电到2.5v时IC采样并发出指令，让MOS1截止，回路断开，电池被保护了。

　　缓冲剂──硼酸用来作为缓冲剂，使镀镍液的PH值维持在必定的范围内。实践明，当镀镍液的PH值过低，将使阴电流效率下降；而PH值过高时，由于H2的不断分出，使紧靠阴外表邻近液层的PH值敏捷升高，导致Ni(OH)2胶体的生成，而Ni(OH)2在镀层中的夹杂，使镀层脆性增加，一起Ni(OH)2胶体在电外表的吸附，还会构成氢气泡在电外表的停留，使镀层孔隙率增加。硼酸不只有PH缓冲效果，并且他可进步阴化，从而改进镀液功能，削减在高电流密度下的“烧焦“现象。硼酸的存在还有利于改进镀层的机械功能。

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　　可测试性设计。可测试性设计包含光板测试的可测试性设计、可测试的焊盘、测试点的分布、测试仪器的可测试性设计等内容。光板测试的可测试性设计。光板测试是为了PCB在组装前，所设计的电路没有断路和短路等故障，测试方法有针床测试、光学测试等。光板的可测试性设计应注意三个方面:，PCB上须设置定位孔，定位孔most好不放置在拼板上；第二，确保测试焊盘大，以便测试探针可顺利进行接触检测；第三，定位孔的间隙和边缘间隙应符合规定。

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　　基材工艺处理的问题: 是对一些较薄的基板(一般0.8mm以下)来说，因为基板刚性较差，不宜用刷板机刷板。 这样可能会无法有效除去基板生产加工过程中为板面铜箔氧化而处理的保护层，虽然该层较薄， 刷板较易除去，但是采用化学处理就存在较大困难，所以在生产加工重要注意控制，以免造成板面基材 铜箔和化学铜之间的结合力不良造成的板面起泡问题；这种问题在薄的内层进行黑化时，也会存在黑化 棕化不良，颜不均，部黑棕化不问题。

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