工厂低价转让9S湖南宇晶双面抛光机研磨机

　　主要用于硅片、石英镜片、光学晶体、玻璃、宝石、铌酸锂、砷化镓、陶瓷片等薄金属或非金属的研磨或抛光

　　采用交流变频电机驱动，软启动、软停止，平稳可靠。

　　油压升降齿圈、非常稳定，太阳轮下有点垫片可调整位置，有效利用了齿圈和太阳轮。

　　上盘单独设置了缓降气缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且还可独立进行压力控制。

　　通过使用电子预设置计数器，研磨圈数、要求可准确控制。

　　可以采用修盘方式修整研磨盘。

　　可与ALC（频率监控仪）连接。

　　该机器分轻压、自重型和轻压、自重、加压两种压力控制形式。

　　研磨盘直径（MM）:φ622×φ218×25（上盘）φ622×φ218×30（下盘）

　　最大理想研磨直径（MM）:φ180

　　加工件平面度:0.2μ(φ10)

　　游轮参数:英制DP12，Z=108

　　游轮数量:5个

　　最小研磨厚度:0.1mm(φ10mm)

　　主机功率:3.7KW（研磨）5.5KW（抛光）

　　下研磨盘转速(rpm):0~60rpm

　　砂泵功率:120W                      

　　流砂形式:循环或点滴

　　设备外形尺寸（MM）:1500X1000X2200

　　重量（KG）:~1980kg