详细说明
中韩产业技术创新研究院是韩国科学技术院在中国设立的整合中韩资源的研究平台，
通过整合中国市场和韩国技术的资源，为中方企业技术需求寻找突破点和合作伙伴，为韩方企业提供进军中国市场的前期市场布局和其他方面支持。
本项目设计的产品是提供各种元素薄膜沉积硅片用于刻蚀校验和研磨液开发。
具体参数规格详谈。
| Nitride | | | |
| Thick | 500~5,000Å | ≤2.0 |
| Si | Amorphous | 500~10,000Å | ≤2.0 |
| Poly | 500~3,000Å | ≤2.0 |
| P-TEOS | 500~40,000Å | ≤5.0 |
| P-SiON,P-SiN,P-SiO2 | 300~3,000Å | ≤3.0 |
| ThermalOxide | Thin | 100Å | ≤2.0 |
| Thick | ~1000Å | ≤2.0 |
| 1000~20,000Å | ≤2.0 |