四氟化碳（CF₄）是一种‌常温常压下为无色无味气体‌的化学物质，化学性质极其稳定，‌主要用于半导体芯片制造中的等离子刻蚀工艺‌，也是微电子工业中用量最大的蚀刻气体 。

　　基本理化性质

　　‌化学标识‌:

　　化学式:‌CF₄‌，又名四氟甲烷、全氟甲烷。

　　分子量:88.00，CAS 号 75-73-0。

　　常温常压下为‌无色无臭气体‌，不溶于水。

　　‌物理参数‌:

　　熔点:约 -184℃，沸点:约 -128℃。

　　气体密度（0℃）:3.946kg/m³，约为空气的 3 倍。

　　临界温度:-45.6℃，临界压力:3739kPa。

　　‌化学特性‌:

　　化学性质‌异常稳定‌，是含碳化合物氟化过程的最终产物。

　　空气中不燃烧，高温下（>800℃）才会开始分解。

　　微溶于水（25℃时溶解度约 0.0015%），溶于苯和氯仿。

　　主要用途与半导体应用

　　‌半导体刻蚀气体‌:

　　是微电子工业中‌用量最大的等离子刻蚀气体‌

　　广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的刻蚀。

　　在电子器件表面清洗、太阳能电池生产中也大量使用。

　　‌其他工业用途‌:

　　低温制冷剂、气体绝缘介质。

　　激光气体、泄漏检验剂。

　　金属冶炼、塑料行业（因化学稳定性极强）。

　　‌电子级标准‌:

　　中国国家标准《电子气体—四氟甲烷》(GB/T 43976-2024) 于‌2024 年 11 月 1 日正式实施‌

　　高纯电子级纯度可达 99.999% 以上，杂质含量控制在 ppmv 级别。

　　市场供应规格包括 4L、10L、40L 钢瓶包装。