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　　刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相，等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,H2O等气体，从而达到蚀刻的目的。

　　实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体，应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。

　　四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。

　　因此，在清洁待清洁的物体的表面之后，能够持续执行沉积，且因此提高生产力。65.此外，根据本发明构思的实施例，涂布步骤是在清洁步骤之后执行。因此，可保持对初始涂布薄膜的损失厚度及表面粗糙度的补偿，且因此当安装半导体处理腔室时，可能使受到遭遇初始条件困扰的发生小化。66.如上所述，根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以地清洁部件。67.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中涂布厚度的减小。68.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中表面平均粗糙度的减小。69.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可通过清洁部件并持续涂布部件来降低花费在使部件再生上的时间。70.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以在不使用诸如酸性化学处理或碱性化学处理的化学处理过程的情况下环境友好地使部件再生。71.本发明构思的功效并不限制于前述功效，且本文未提及的其他功效可由本发明构思涉及的那些本领域普通技术人员从该说明书及附图中充分理解。

　　23、化学和电化学氧化及染黑、镀镍及黑铬等。从泽均匀、耐磨、装饰防护性等方面看，以黑铬的镀层为佳，主要用于航空、仪表、相机等光学系统中，以及其它产品上用于装饰、作标志等场合。3、 乳白铬乳白铬的特点是无光泽、硬度低、无裂纹网、随镀层厚度的增加，气孔减少、抗蚀性好，在乳白铬镀层作刻度容易，且使用者不感到眼睛疲劳。乳白铬广泛用于工量具、机械设备中的分度盘、刻度盘、医疗器械等。4、 镀硬铬这种镀层的特点是通过厚的镀层来突出铬层本身的性能。包括耐热、耐磨损、忍腐蚀，以及低的磨擦系数等。硬铬一般是直接镀在钢铁件表面，它的用途比较广泛。例如，高吨位水压机的大型柱塞等大型设备的部件用硬铬。它的用途比较广

　　等离子体设备表面活化处理工艺在硅胶制品中的应用；硅胶制品是耐高温塑料，能承受连续高温。与其他材料相比，硅胶制品具有勾兑生物制品的特性，生产的设备结实耐用，主要应用于食品、医疗设备和工业生产行业。但是硅胶制品的表层容易沾上灰尘。生产厂家通常用有机化学品喷漆，使硅胶制品表面层耐磨、防尘、促进亲水性。然而，这样的生产过程不仅增加了成本，也干扰了生态和身体健康。理论上，硅胶制品的表层具有氧原子结构，具有负和静电能，而细颗粒含有正。因此，硅胶制品的细小颗粒表层与静电能可相互吸引，使表层尘土飞扬，不易清洁，干扰设备的外观和功效。