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　　金属表面处理

　　金属表面处理主要是指抛光、打磨、抛丸、喷砂等金属机械加工工艺，通常是对有色金属压铸件（以铝、镁等有色金属材料为主）深加工前进行的表面预处理手段，是保证产品品质的重要环节。

　　这个过程中会产生一定量的金属或者金属与非金属的混合粉尘，当空气中这类粉尘浓度达到爆炸极限，遇到点火源（抛光、抛丸均极易产生火星）极易产生爆燃事故。特别是铝、镁粉尘及含有铝、镁等有色金属成分的混合粉尘的爆燃危害更大。

　　湿式除尘设备的过滤介质是水，因此，对于抛光、抛丸等极易产生火星的工艺来说，绝大多数情况下，通过直接灭熄点火源（火星）的湿式除尘方式，无疑是最实用、最安全、最便捷的粉尘净化方式。

　　19、液阳氧化处理的工艺过程。4、 草酸氧化法 草酸阳氧化工艺采用也比较广泛，它用于航空工业、电器工业、铝制品等以获得较优良的防护膜层。5、 铝及其合金的其它阳氧化法（1）瓷质阳氧化法它又称仿釉氧化，此工艺是精饰铝及其合金的新方法，实际上是在铬酸阳氧化法衍生而来的。当向铬酸电解液中添加草酸和硼酸后，在一定的工艺条件下，可用阳氧化得到类似瓷釉或塘瓷乳白氧化膜。具有良好的耐蚀性能，能着上各种颜，有的光彩（尤像塑料），可获得良好的装饰效果。瓷质氧化具有下列特点:高的硬度和耐磨性；优良装饰性，膜层与塑料相似，具有瓷釉般光泽、美观大方；高耐蚀性，比一般氧化膜的耐蚀度高出12倍；有良好的热

　　从理论上讲，硅胶材料表层存在氧原子、负和静电，粉尘颗粒具有正性，粉尘颗粒与硅胶材料静电表层可以相互吸引，导致表层起尘，不易清洗，干扰物品外观和功效。对于硅胶材料表面层容易沾染灰尘的问题，等离子体表面改性技术可以改善相关功能。由于静电干扰，硅胶材料容易沾上灰尘。如果制造商使用传统的化学涂装方法，使用耐磨、防尘、润滑涂层只需要几个月的时间。这种新途径是利用等离子体对硅胶材料表面的氧原子进行修饰，使负硅胶材料表面变为正，使用无害的有机化工原料，不排放污染物，因此等离子体是一种清洁生产工艺。它具有低静电、高耐磨、防尘等特点，更适用于高端物品，如眼镜架、电子表带等，也可应用于医疗器械、运动器材等，使这类物品的功能。

　　三、磁控溅射镀膜技术及设备磁控溅射能够地控制工艺参数和提高膜层的附着力、密度及均匀性，已成为沉积薄膜的重要的方法之一。是一种多功能、率的镀膜设备，可装配柱状旋转磁控靶和平面磁控靶。主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件沉积铝、铜、铬、钛、银及不锈钢等各种功能薄膜，所镀膜层具有均匀、致密、附着力强等特点。四、复合离子镀膜技术及设备复合离子镀膜是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术，具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料表面合金化等特点，可制备各种金属化合物尤其是金属氮化物膜层。