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　　表面处理设备关键部件

　　一、多功能离子注入技术及设备

　　多功能离子注入是一种将离子注入和增强沉积相结合的先进表面改性新技术。该设备配有多个源头，既能单独使用，也可以根据工艺要求以各种不同方式，部分或同时进行工作，从而实现对材料表面的单元、多元注入或增强沉积。被它处理过的工件，明显改善工件表面的耐磨、耐腐蚀和抗疲劳等性能，从而提高工件的使用寿命。

　　二、全方位离子注入与沉积技术及设备

　　全方位离子注入是一种先进的材料表面改性新技术。其基本原理是:将需处理的工件直接浸泡在等离子体中，在工件上施加负脉冲高压，离子通过工件周围的等离子体鞘层的加速从各个方向垂直注入工件表面，从而改变零件表面层的物理和化学特性。该设备功能强大，可以注入气体和金属离子，亦可实现增强沉积成膜，在一定深度内，形成与基本之间连续过渡的表面改性层。此改性层的结合力，远优于PVD、CVD涂层。它可明显的提高材料的耐磨、耐腐蚀等性能，从而提高其使用寿命

　　原料粒子的尺寸可为几μm，且通过使原料颗粒粒化所获得的清洁粒子1的尺寸可为几十μm。例如，清洁粒子1的尺寸(大小)可在几μm至100μm的范围内。清洁粒子1的尺寸(大小)可优选地在20μm至50μm的范围内。当原料颗粒被粒化且大小变大时，碰撞能量可能增强。清洁粒子1的大小及形状可根据涂布薄膜及污染物薄膜的硬度来不同地设置。49.图3是示出根据本发明构思的实施例的表面处理方法的流程图。将参考图3描述根据实施例的表面处理方法。50.根据实施例的表面处理方法包括:拆卸待清洁的部件的步骤(s10)；通过在真空中经由超音速喷嘴110喷射清洁粒子来清洁部件的步骤(s20)；通过向已清洁部件吹扫气体来去除经清洁部件的表面上的灰尘的步骤(s30)；及重新涂布经清洁部件的表面的步骤(s40)。51.图4是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备清洁部件的表面的步骤的视图。图5是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备来向部件的表面吹扫气体的步骤的视图。图6是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备来涂布部件的表面的步骤的视图。

　　等离子处理后表面自由基保持时间不会很久,需要对客户特定的产品和工艺做相关的实验才能得知,有些只能保持几分钟或几天真空等离子体清洗设备可以清洁半导体元件，光学元件、电子元件、半导体元件、激光装置、涂层基板、终端装置等。使用真空等离子清洗机之前应该注意这些问题广东金铂利莱科技有限公司，的自动化设备生产厂家，生产全自动采样管灌装拧盖机。等离子体刻蚀处理的材料表面进行处理,活化,,提高表面附着力,全自动运行,可24小时连续工作,无需人工看管等离子体刻蚀处理效果均匀稳定.

　　随着工业和消费类电子往集成化、微型化方向发展，对电子器件的性提出了更高的要求。在电子元器件生产加工过程中因各种因素的影响导致受到污染，这对产品的质量和使用寿命会造成严重的影响。等离子体可以在不破坏材料表面特性及电特性的前提下，实现对电子元器件表面进行分子水平清洗目的，还可以改善电子元器件材料本身的表面性能，如提高表面湿润性和键合、电镀及压焊等工艺的牢固性，尤其适合不耐热以及不耐溶剂的电子器件进行表面处理。