江西阿尔门试片生产厂商电话

　　刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相，等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,H2O等气体，从而达到蚀刻的目的。

　　实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体，应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。

　　四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。

　　随着工业和消费类电子往集成化、微型化方向发展，对电子器件的性提出了更高的要求。在电子元器件生产加工过程中因各种因素的影响导致受到污染，这对产品的质量和使用寿命会造成严重的影响。等离子体可以在不破坏材料表面特性及电特性的前提下，实现对电子元器件表面进行分子水平清洗目的，还可以改善电子元器件材料本身的表面性能，如提高表面湿润性和键合、电镀及压焊等工艺的牢固性，尤其适合不耐热以及不耐溶剂的电子器件进行表面处理。

　　金属表面的清洁和预处理: 表面清洁和预处理设备(铬酸盐处理设备；使用有机溶剂去油和清洁设备；使用水溶剂去油和清洁设备；使用散体单元处理用振动设备；去除薄膜和油漆用流化设备；表面清洁用激光设备；钝化设备；磷化处理设备；酸洗设备；表面清洁用等离子系统；喷砂处理表面硬化用设备；超声波设备；蒸汽喷砂处理设备；表面清洁和预处理设备附件)；表面清洁和预处理用辅料(铬酸盐处理剂；清洁和去油剂；去垢剂；湿润剂、清洁剂、添加剂；磷化剂；酸洗剂；蒸汽喷砂用研磨材料；防腐蚀表面保护剂)

　　72.上述描述举例说明本发明构思。此外，上述内容描述了本发明构思的实施例，且本发明构思可用于各种其他组合、变化及环境中。即，在不脱离本说明书中揭示的本发明构思的范围、书面公开的等效范围及/或本领域普通技术人员的技术或知识范围的情况下，可以对本发明构思进行改变或修改。书面实施例描述了用于实施本发明构思的技术精神的佳状态，且可进行本发明构思的特定应用及目的中所需的各种改变。因此，本发明构思的详细描述并非旨在限制所揭示的实施例状态中的本发明构思。此外，应理解为所附权利要求包括其他实施例。73.虽然已经参考实施例描述了本发明构思，但对于本领域普通技术人员显而易见的是，在不脱离本发明构思的精神及范围的情况下可以进行各种改变及修改。因此，应当理解，上述实施例并非限制性的，而是示例性的。