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　　表面处理设备关键部件

　　一、多功能离子注入技术及设备

　　多功能离子注入是一种将离子注入和增强沉积相结合的先进表面改性新技术。该设备配有多个源头，既能单独使用，也可以根据工艺要求以各种不同方式，部分或同时进行工作，从而实现对材料表面的单元、多元注入或增强沉积。被它处理过的工件，明显改善工件表面的耐磨、耐腐蚀和抗疲劳等性能，从而提高工件的使用寿命。

　　二、全方位离子注入与沉积技术及设备

　　全方位离子注入是一种先进的材料表面改性新技术。其基本原理是:将需处理的工件直接浸泡在等离子体中，在工件上施加负脉冲高压，离子通过工件周围的等离子体鞘层的加速从各个方向垂直注入工件表面，从而改变零件表面层的物理和化学特性。该设备功能强大，可以注入气体和金属离子，亦可实现增强沉积成膜，在一定深度内，形成与基本之间连续过渡的表面改性层。此改性层的结合力，远优于PVD、CVD涂层。它可明显的提高材料的耐磨、耐腐蚀等性能，从而提高其使用寿命

　　工作效率低、成本高、易受钨污染，场合需增加防风措施1.2接触焊，即压力焊接触焊是瞬时加热连接部位在熔化状态或非熔化状态下对被焊件加压形成焊接接头的焊接方法.它可分为对焊、点焊和缝焊.点焊的总厚度不得超过8mm,焊点的大小一般为2T+3(2T表示两焊件的料厚),由于上电是中空并通过冷却水来冷却.因此电不能无限制的减小,小直径一般为3~4mm.点焊的工件在其中相互接触的某一面冲排焊点,以增加焊接强度,通常排焊点大小为Φ1.5~2.5mm高度为0.3mm左右.

　　三、磁控溅射镀膜技术及设备磁控溅射能够地控制工艺参数和提高膜层的附着力、密度及均匀性，已成为沉积薄膜的重要的方法之一。是一种多功能、率的镀膜设备，可装配柱状旋转磁控靶和平面磁控靶。主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件沉积铝、铜、铬、钛、银及不锈钢等各种功能薄膜，所镀膜层具有均匀、致密、附着力强等特点。四、复合离子镀膜技术及设备复合离子镀膜是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术，具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料表面合金化等特点，可制备各种金属化合物尤其是金属氮化物膜层。

　　注意的问题及要求:一般只用于钢板。铝板及铜板一般不能用，因为材料传热太快，造成切口周围融化，不能加工精度及质量。激光切割端面有一层氧化皮，酸洗不掉，有要求的切割端面要打磨；激光切割密孔变形较大，一般不用激光切割密孔。线切割是把工件和电丝（钼丝，铜丝）各作为一，并保持一定距离，在有高的电压时形成火花隙，对工件进行电蚀切割的加工方法，切除的材料由工作液带走。特点:加工精度高，但加工速度较低，成本较高，且会改变材料表面性质。一般用于模具加工，不用作加工生产用零件。有些单板型材面板的方孔没有圆角，无法铣削，又因为铝合金不能用激光切割，如果没有冲压空间不能冲压，只能采取线切割加工，速度很慢，效率低，无法适应批量生产，设计应该避免这种情况。