上海喷砂机设备设计方案

　　常见湿式除尘设备特点

　　正压送风喷淋逆洗式除尘装置（AQ 4272-2016 标准已经明确禁止）

　　这种装置结构简单，投资成本低，被抛光行业特别是小企业大量应用。

　　但是，环保不达标、腔体内容易聚集氢气、耗水量大、污水难以处理。

　　目前已经被国家标准严禁使用，但仍被一些企业违规使用。

　　喷淋洗涤塔

　　（包括填料塔、湍球塔）

　　主要应用在电子、化工等工艺产生的酸碱废气的酸碱中和，可以附带处理浓度不高的粉尘，或者作为主除尘设备的前端预处理设备。

　　应用在铝镁抛光粉尘处理方面注意事项:喷淋装置对喷淋头品质、水压、水质要求较高。过滤效率较低，适用于粉尘浓度很低的粉尘，如果粉尘含有布轮、 轮等纤维状粉尘及抛光膏、抛光蜡等成分，粉尘与填充层接触易堵塞不易清理、污染物处理繁琐、占地空间大、有爆炸风险。

　　在粉尘产生量不高、经济承受能力不强的企业中有一定市场。

　　水幕式湿式除尘装置

　　这种装置结构简单、投资成本低，在个别大工件抛光打磨和喷漆类小企业有应用。

　　但是，过滤效率低、耗水量大、污水难以处理。目前被个别应用在抛光打磨工位前的预处理，主要用来灭熄火星和吸收少量粉尘。受末端风机风量变化的影响，水幕很难稳定形成对除尘口的全覆盖，作为预处理，未能过滤的粉尘受潮极易吸附在除尘管道上，挂壁沉积甚至板结，反而影响整体的吸尘效果。

　　在粉尘产生量低、经济承受能力不强的企业中有一定市场。

　　因此，在清洁待清洁的物体的表面之后，能够持续执行沉积，且因此提高生产力。65.此外，根据本发明构思的实施例，涂布步骤是在清洁步骤之后执行。因此，可保持对初始涂布薄膜的损失厚度及表面粗糙度的补偿，且因此当安装半导体处理腔室时，可能使受到遭遇初始条件困扰的发生小化。66.如上所述，根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以地清洁部件。67.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中涂布厚度的减小。68.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中表面平均粗糙度的减小。69.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可通过清洁部件并持续涂布部件来降低花费在使部件再生上的时间。70.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以在不使用诸如酸性化学处理或碱性化学处理的化学处理过程的情况下环境友好地使部件再生。71.本发明构思的功效并不限制于前述功效，且本文未提及的其他功效可由本发明构思涉及的那些本领域普通技术人员从该说明书及附图中充分理解。

　　★表面刻蚀:硅的微细加工，玻璃等太阳能领域的表面刻蚀处理★表面接枝:材料表面特定基团的产生和表面活化的固定★表面沉积:疏水性或亲水性层的等离子体聚合沉积其广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。公司设有韩国首家低温等离子体表面处理技术研发中心。拥有以韩国研究院人员为主导的研发团队，具有多年从事低温等离子体表面处理工艺研究的经验和深厚的理论基础。研发中心下设表面清洗研究室、表面活化研究室、引发接枝研究室以及生物材料表面处理研究室等。

　　气体可以是与载体气体相同类型的气体且可以是惰性气体或空气。根据本发明构思的实施例，将具有与涂布薄膜的表面的硬度相似的硬度的粉末而不是诸如氩气或二氧化碳的精细粒子用作清洁粒子1，且因此清洁粒子1在与污染物20碰撞后不会升华。清洁粒子1残留在物体10的表面上的未经升华的残余物及污染物的残余物可通过气体吹扫从物体10的表面去除。经吹扫残余物可经由排气管线(未示出)释放。56.参考图6，主阀131a、阀132a及第三阀134a打开，且第二阀135a关闭。清洁粒子1喷射在物体10的经清洁表面。在该步骤中，清洁粒子1作为涂布粒子。57.通过控制清洁粒子1周围的气氛或载体气体的温度、喷嘴110喷射清洁粒子1时的压力及清洁粒子1的粒径，将清洁粒子1沉积在物体10的经清洁表面上。虽然在图6的实施例中已经描了清洁粒子1作为涂布粒子提供，但涂布粒子可与在清洁过程中使用的清洁粒子不同。如上所述，当经由喷嘴110单独供应两种或更多种类型的粒子时，可进一步提供连接到主供应管线131以供应不同粒子的附加的供应管线。58.图7是示出根据本发明构思的各种实施例的部件的经清洁表面的照片。59.清洁区域、第二清洁区域及第三清洁区域分别在不同条件下被清洁，且确定在情况下都存在清洁力。60.通过将干净干燥空气(clean dry air；cda)作为载体气体喷射y2o3粒子50次来清洁清洁区域。以30标准升每分钟(slm)来供应cda。确定清洁区域的涂布厚度减小了10μm。61.通过将干净干燥空气(cda)作为载体气体喷射y2o3粒子100次来清洁第二清洁区域。