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　　刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相，等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,H2O等气体，从而达到蚀刻的目的。

　　实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体，应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。

　　四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。

　　★表面刻蚀:硅的微细加工，玻璃等太阳能领域的表面刻蚀处理★表面接枝:材料表面特定基团的产生和表面活化的固定★表面沉积:疏水性或亲水性层的等离子体聚合沉积其广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。公司设有韩国首家低温等离子体表面处理技术研发中心。拥有以韩国研究院人员为主导的研发团队，具有多年从事低温等离子体表面处理工艺研究的经验和深厚的理论基础。研发中心下设表面清洗研究室、表面活化研究室、引发接枝研究室以及生物材料表面处理研究室等。

　　本实用新型涉及一种废水处理装置，具体说是表面处理生产线废水处理装置。它包括蒸发器。其特点是还包括物理过滤机构、超滤机构、反渗透机构、化学过滤机构、海水淡化机构、产水箱、第二反渗透机构和回用水箱；所述物理过滤机构与超滤机构相连，超滤机构与反渗透机构相连，反渗透机构与产水箱和化学过滤机构相连，化学过滤机构与产水箱和海水淡化机构相连，海水淡化机构与产水箱和所述蒸发器相连；所述产水箱与第二反渗透机构相连，第二反渗透机构与回用水箱相连，所述蒸发器与产水箱相连。采用高处理装置可减少能源消耗，减小环境污染。

　　6、一般是浸入贵金属盐类水溶液，于是贵金属离子就被还原剂还原为贵金属，从而在制件表面上形成贵金属膜。这层贵金属可以起到活性催化的作用，帮也称催化膜，它可以加速化学镀的还原反应。实践明，银、钯等贵金属都具有这种催化能力。5、还原反应经过活化处理的塑料制件，用水清洗后，就可以进行化学镀。塑料制件进行化学镀以前，先在一定浓度的化学镀所用的还原剂溶液中浸一下，把未被水洗掉的活化剂还原，这就是还原处理。化学镀铜时，可先用次磷酸钠溶液进行还原处理。6、化学镀到目前为止，已有很多重金属可以通过化学镀铜的方法从水溶液中沉积出来。从经济角度来看，化学镀铜成本，因此被广泛采用。化学镀铜层外观呈铜红，不能作为装