北京喷砂机生产厂商销售

　　刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相，等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,H2O等气体，从而达到蚀刻的目的。

　　实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体，应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。

　　四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。

　　原料粒子的尺寸可为几μm，且通过使原料颗粒粒化所获得的清洁粒子1的尺寸可为几十μm。例如，清洁粒子1的尺寸(大小)可在几μm至100μm的范围内。清洁粒子1的尺寸(大小)可优选地在20μm至50μm的范围内。当原料颗粒被粒化且大小变大时，碰撞能量可能增强。清洁粒子1的大小及形状可根据涂布薄膜及污染物薄膜的硬度来不同地设置。49.图3是示出根据本发明构思的实施例的表面处理方法的流程图。将参考图3描述根据实施例的表面处理方法。50.根据实施例的表面处理方法包括:拆卸待清洁的部件的步骤(s10)；通过在真空中经由超音速喷嘴110喷射清洁粒子来清洁部件的步骤(s20)；通过向已清洁部件吹扫气体来去除经清洁部件的表面上的灰尘的步骤(s30)；及重新涂布经清洁部件的表面的步骤(s40)。51.图4是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备清洁部件的表面的步骤的视图。图5是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备来向部件的表面吹扫气体的步骤的视图。图6是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备来涂布部件的表面的步骤的视图。

　　72.上述描述举例说明本发明构思。此外，上述内容描述了本发明构思的实施例，且本发明构思可用于各种其他组合、变化及环境中。即，在不脱离本说明书中揭示的本发明构思的范围、书面公开的等效范围及/或本领域普通技术人员的技术或知识范围的情况下，可以对本发明构思进行改变或修改。书面实施例描述了用于实施本发明构思的技术精神的佳状态，且可进行本发明构思的特定应用及目的中所需的各种改变。因此，本发明构思的详细描述并非旨在限制所揭示的实施例状态中的本发明构思。此外，应理解为所附权利要求包括其他实施例。73.虽然已经参考实施例描述了本发明构思，但对于本领域普通技术人员显而易见的是，在不脱离本发明构思的精神及范围的情况下可以进行各种改变及修改。因此，应当理解，上述实施例并非限制性的，而是示例性的。

　　14、图案层在产品的表面上，厚度只有几个微米，产品使用一段时间后很容易会将印刷图案层磨损掉，也易褪，造成表面很不美观。另外新品开发周期长、开发费用高，图案颜无法实现小批量灵活变化也是IMR工艺无法克服的弱点。首先在概念上有必要说明:IMD包含IML,IMF,IMRIML:IN MOLDING LABEL印刷胶料与塑结合IMF:IN MOLDING FILM与IML相同IMR:IN MOLDING ROLLER重点在于胶料上的离型层。PET FILM印离型剂印刷油墨印接着剂 内塑料射出油墨与塑接着开模后胶料会自动从油墨离型。日本称热转写。这机器是用ROLL TO ROLL方式，而对位用CCD计算机