安徽真空镀膜设备厂商销售

　　文氏管除尘器结构简单，维护管理容易，过滤效率较高。压力稳定但压力损失大，耗水量较大，高压喷水装置对水质要求较高，喷水装置容易产生故障影响除尘效率，垃圾处理相对繁琐。

　　目前，该装置更多地被用来处理热处理过程中产生的高温油脂烟气。

　　适用于自身要求较高、经济承受能力较强的企业。

　　涡旋式（自激式）湿式除尘器

　　压力稳定，过滤效率较高，适用范围广，维护简便，故障隐患点少，运行成本较低，耗水量不高，对水源水质要求不高。自动清淤装置解决了污染物难以收集的问题，特别适用于抛光、抛丸等金属表面处理工艺。但机体结构较其它湿式除尘设备复杂、成本较高。由于技术领先，具有较好的发展前景。

　　适用于自身要求较高、经济承受能力较强的企业。

　　选配除尘设备注意事项

　　含有抛光膏和纤维粉尘的铝镁抛光粉尘

　　这类粉尘有一定的粘性，极易在管道挂壁，粉尘容易悬浮在水面影响过滤效率。尽可能缩短甚至取消收尘管道，直接选用高过滤效率、可以及时消除粉尘张力的湿式除尘设备，是解决这种抛光打磨工艺粉尘问题的关键。

　　目前，具备这些能力的除尘设备主要是涡旋式（自激式）湿式除尘器。

　　异形大体积铝镁制品抛光打磨工件粉尘

　　该工艺的难点在于很难设计出满足吸尘效果的吸尘罩，采用抛光打磨作业空间和除尘设备一体式的综合除尘装置，是解决这个问题的关键。

　　目前，经过改良设计的抛光打磨作业空间和除尘设备一体式的涡旋式（自激式）湿式除尘装置在这方面进行了有益的尝试。但投资成本较高。

　　抛丸机选配除尘设备注意要点

　　吸风量应足以保证抛丸机腔体始终处于微负压状态。

　　抛丸机腔体内产生的铝镁等金属混合物粉尘聚集在抛丸机机体内极易发生燃烧甚至爆炸，吸风效果必须持续稳定，避免抛丸机腔体内粉尘聚集，这就要求为其配套的除尘设备自身压力必须长期稳定。

　　44.喷嘴110与主供应管线131连接。主供应管线131与粒子供应管线132及气体供应管线135连接。粒子供应管线132向喷嘴110供应清洁粒子1。清洁粒子储存构件140可设置在粒子供应管线132的端部处。清洁粒子储存构件140可呈漏斗的形式提供。粒子供应管线132可连接到清洁粒子储存构件140的下端。清洁粒子储存构件140可与载体气体供应管线134连接。载体气体供应管线134可向清洁粒子储存构件140供应载体气体。载体气体可携带供应到喷嘴110的清洁粒子。载体气体供应管线134可与载体气体供应150连接。载体气体可以是空气或惰性气体。气体供应管线135将气体供应到喷嘴110。气体供应管线135可与气体供应160连接。主阀131a可与主供应管线131并列设置。阀132a可与粒子供应管线132并列设置。第二阀135a可与气体供应管线135并列设置。第三阀134a可与载体气体供应管线134并列设置。加热器138可与载体气体供应管线134并列设置，且可将经供应的载体气体加热到设置温度。主阀131a、阀132a、第二阀135a及第三阀134a可仅利用打开阀/关闭阀实施，但也可利用可调节流量率的流量控制阀实施。45.虽然未图示出，但流量计可分别与主供应管线131、粒子供应管线132、气体供应管线135及载体气体供应管线134并列设置。46.控制器200可控制主阀131a、阀132a、第二阀135a、第三阀134a及移动构件120。

　　19.在实施例中，该表面处理设备可进一步包括控制器，且该控制器可执行控制以经由该喷嘴以超音速速率喷射该粒子。20.在实施例中，表面处理设备可进一步包括控制器，且该控制器执行:控制以经由该喷嘴以超音速速率喷射该粒子且使该物体或该喷嘴相对于彼此移动，使得通过该粒子与该物体的表面上的污染物的碰撞从该物体的表面去除该污染物；可停止该粒子的供应；且可执行控制以经由该喷嘴喷射该气体以吹扫残留在该物体的表面上的残余物。21.在实施例中，该表面处理设备可进一步包括控制器，且该主供应管线可向该喷嘴另外供应与该粒子相同或不同的第二粒子。该控制器可执行控制以经由该喷嘴以超音速速率喷射该粒子且使该物体或该喷嘴相对于彼此移动，使得通过该粒子与该物体的表面上的污染物的碰撞从该物体的表面去除该污染物；可停止该粒子的该供应，可执行控制以经由该喷嘴喷射该气体以吹扫残留在该物体的该表面上的残余物；且可执行控制以经由该喷嘴喷射该第二粒子以利用该第二粒子涂布该物体的该表面。22.在实施例中，该物体可以是被设置在用于处理诸如晶圆等基材的设备中的部件且可由涂布有y2o3的铝材料形成。23.根据实施例，提供一种用于处理待处理物体的表面的方法，其中设置在用于处理诸如晶圆等基材的设备中且被污染的部件作为待处理物体。该方法包括:在其中设置有该物体的气氛中形成真空且通过粒子以超音速速率与该物体的表面上的污染物碰撞来清洁该物体的该表面。24.在实施例中，该粒子可具有与该物体的涂布成分相同的成分或硬度与该物体的涂布成分的硬度相似的成分。

　　因此，在清洁待清洁的物体的表面之后，能够持续执行沉积，且因此提高生产力。65.此外，根据本发明构思的实施例，涂布步骤是在清洁步骤之后执行。因此，可保持对初始涂布薄膜的损失厚度及表面粗糙度的补偿，且因此当安装半导体处理腔室时，可能使受到遭遇初始条件困扰的发生小化。66.如上所述，根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以地清洁部件。67.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中涂布厚度的减小。68.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中表面平均粗糙度的减小。69.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可通过清洁部件并持续涂布部件来降低花费在使部件再生上的时间。70.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以在不使用诸如酸性化学处理或碱性化学处理的化学处理过程的情况下环境友好地使部件再生。71.本发明构思的功效并不限制于前述功效，且本文未提及的其他功效可由本发明构思涉及的那些本领域普通技术人员从该说明书及附图中充分理解。