云南真空等离子清洗机有哪些公司

　　等离子表面处理设备

　　等离子表面处理设备广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。

　　等离子处理机

　　等离子处理机具有高稳定性、高性价比、高均匀性等诸多优点。与传统的方法相比，等离子表面处理设备具有成本低、无废弃物、无污染等显著的优点。

　　等离子清洗机

　　等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。

　　真空等离子清洗机

　　真空等离子清洗机是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到表面处理、清洗和刻蚀效果。

　　低温等离子处理设备

　　低温等离子设备已在传统和高技术领域被广泛运用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域。类型有:水平式低温等离子设备、卷对卷式低温等离子设备

　　72.上述描述举例说明本发明构思。此外，上述内容描述了本发明构思的实施例，且本发明构思可用于各种其他组合、变化及环境中。即，在不脱离本说明书中揭示的本发明构思的范围、书面公开的等效范围及/或本领域普通技术人员的技术或知识范围的情况下，可以对本发明构思进行改变或修改。书面实施例描述了用于实施本发明构思的技术精神的佳状态，且可进行本发明构思的特定应用及目的中所需的各种改变。因此，本发明构思的详细描述并非旨在限制所揭示的实施例状态中的本发明构思。此外，应理解为所附权利要求包括其他实施例。73.虽然已经参考实施例描述了本发明构思，但对于本领域普通技术人员显而易见的是，在不脱离本发明构思的精神及范围的情况下可以进行各种改变及修改。因此，应当理解，上述实施例并非限制性的，而是示例性的。

　　19.在实施例中，该表面处理设备可进一步包括控制器，且该控制器可执行控制以经由该喷嘴以超音速速率喷射该粒子。20.在实施例中，表面处理设备可进一步包括控制器，且该控制器执行:控制以经由该喷嘴以超音速速率喷射该粒子且使该物体或该喷嘴相对于彼此移动，使得通过该粒子与该物体的表面上的污染物的碰撞从该物体的表面去除该污染物；可停止该粒子的供应；且可执行控制以经由该喷嘴喷射该气体以吹扫残留在该物体的表面上的残余物。21.在实施例中，该表面处理设备可进一步包括控制器，且该主供应管线可向该喷嘴另外供应与该粒子相同或不同的第二粒子。该控制器可执行控制以经由该喷嘴以超音速速率喷射该粒子且使该物体或该喷嘴相对于彼此移动，使得通过该粒子与该物体的表面上的污染物的碰撞从该物体的表面去除该污染物；可停止该粒子的该供应，可执行控制以经由该喷嘴喷射该气体以吹扫残留在该物体的该表面上的残余物；且可执行控制以经由该喷嘴喷射该第二粒子以利用该第二粒子涂布该物体的该表面。22.在实施例中，该物体可以是被设置在用于处理诸如晶圆等基材的设备中的部件且可由涂布有y2o3的铝材料形成。23.根据实施例，提供一种用于处理待处理物体的表面的方法，其中设置在用于处理诸如晶圆等基材的设备中且被污染的部件作为待处理物体。该方法包括:在其中设置有该物体的气氛中形成真空且通过粒子以超音速速率与该物体的表面上的污染物碰撞来清洁该物体的该表面。24.在实施例中，该粒子可具有与该物体的涂布成分相同的成分或硬度与该物体的涂布成分的硬度相似的成分。

　　因此，在清洁待清洁的物体的表面之后，能够持续执行沉积，且因此提高生产力。65.此外，根据本发明构思的实施例，涂布步骤是在清洁步骤之后执行。因此，可保持对初始涂布薄膜的损失厚度及表面粗糙度的补偿，且因此当安装半导体处理腔室时，可能使受到遭遇初始条件困扰的发生小化。66.如上所述，根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以地清洁部件。67.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中涂布厚度的减小。68.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中表面平均粗糙度的减小。69.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可通过清洁部件并持续涂布部件来降低花费在使部件再生上的时间。70.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以在不使用诸如酸性化学处理或碱性化学处理的化学处理过程的情况下环境友好地使部件再生。71.本发明构思的功效并不限制于前述功效，且本文未提及的其他功效可由本发明构思涉及的那些本领域普通技术人员从该说明书及附图中充分理解。