上海伯东美国 KRI射频离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试!

　　上海伯东射频离子源客户案例: 国内某知名 LED 制造商

　　1.离子源应用: LED-DBR 镀膜生产

　　2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.

　　3. 离子源: 采用美国 KRI射频离子源RFICP 325.离子源RFICP 325 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界较高等级,离子源RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.

　　4.离子源功能:通过射频离子源RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.

　　上海伯东射频离子源安装案例:KRI RFICP 325 射频离子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.

　　KRI射频离子源测试案例:LED-DBR 脱膜测试.

　　1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试

　　2. 测试结果

　　--------- 使用其他品牌离子源--- --------------------- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ----------------------

　　从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题;使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边

　　上海伯东美国射频离子源 KRI RFICP 325 优点:

　　高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广

　　镀膜均匀性佳,提高镀膜品质

　　模块化设计, 保养快速方便

　　增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率

　　全自动控制设计, 操作简易

　　低耗材成本,安装简易

　　1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源,霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

　　若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论,请联络上海伯东邓女士,分机134