深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售磁控溅射用的靶材。关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物理气相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。所以膜附着力小，但沉积率高，多用于光学镀膜。磁控溅射中氩离子冲击靶材使靶材原子和分子碎片沉积在零件，靶材材料动能可达数百甚至上千电子伏特能量。是真正的中性的纳米级镀膜。阴极弧起弧后一方面靶面高温将材料冶金融化，强大电场然后将融化材料几乎完全离子化，在靶电源和零件偏压综合作用下成膜。看起来阴极弧镀较先进，其实不然。首先靶面溶化过程很随机不可控制，离子成团镀到零件。镀件均匀性和光滑性难以保证。通俗点讲阴极弧镀是真空下的焊接过程，阴极弧电源和焊接电源原理上很近似。阴极弧技术主要源于前苏联，在我国因种种原因较普及，电源简单是很大一个因素。但技术不断进步。近年过滤阴极弧技术发展较快，避免了成膜不均匀的缺点，但有所得必有所失，过滤使沉积率减小而设备成本增高。

　　 深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的AZO靶材，密度、纯度以及内部组织均匀性等靶材质量的重要参数严格管控。大面积镀膜玻璃，薄膜的主要制备方法是溅射法,制备出的薄膜致密度高,附着性好。AZO靶材质量是影响溅射法制备薄膜的关键因素之一，优良的靶材是制备高性能薄膜的首要条件，透明导电薄膜的质量主要体现在其电阻率和可见光区的透射率。透明导电薄膜的电学和光学性能对质量优良的靶材的要求是不言而喻的。