深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售磁控溅射用的靶材。中频磁控溅射对靶和磁场的设计以及工作气压要求很高，中频磁控溅射是直流磁控溅射沉积速率的2到3倍。中频磁控溅射是两个靶工作，制备化合物膜层，由于其离化率低很难找到一个最佳的中毒点，对工作气体的流量控制要求很严格。若控制不好则很难制备均匀和结合力好的膜层。再就是磁场的设计主要是磁场分布的均匀性这样既可以提高靶材的利用率，另外对于最佳中毒点工作时的稳定性也有很大提高  磁控溅射的离子能量和绕射性都远低于多弧靶面，与工件的距离是很重要的，太近离子对工件的轰击可以损坏膜层，太远则偏离了最佳溅射距离制备的膜层结合力很差。

　　 深圳众诚达应用材料科技有限公司生产销售的AZO靶材，密度、纯度以及内部组织均匀性等靶材质量的重要参数严格管控。大面积镀膜玻璃，薄膜的主要制备方法是溅射法,制备出的薄膜致密度高,附着性好。AZO靶材质量是影响溅射法制备薄膜的关键因素之一，优良的靶材是制备高性能薄膜的首要条件，透明导电薄膜的质量主要体现在其电阻率和可见光区的透射率。透明导电薄膜的电学和光学性能对质量优良的靶材的要求是不言而喻的。