磁控溅射真空镀膜靶材 众诚达应用材料公司

名称:磁控溅射真空镀膜靶材 众诚达应用材料公司

供应商:深圳市众诚达应用材料科技有限公司

价格:面议

最小起订量:1/个

地址:深圳市宝安区西乡固戍航城大道广豪锋工业园

手机:13530560892

联系人:涂代旺 (请说在中科商务网上看到)

产品编号:72415998

更新时间:2015-03-17

发布者IP:123.88.2.196

详细说明

       深圳市众诚达应用材料科技有限公司是一家从事靶材研发、生产与销售的高新技术企业。现已拥有陶瓷烧结、等离子喷涂、真空熔炼等核心技术。公司产品主要包括:高密度陶瓷溅射靶材(3N-5N):ITO靶,AZO靶,IGZO靶,氧化镁靶,氧化钇靶,氧化铁靶材,,氧化镍靶,氧化铬靶,氧化锌靶,硫化锌靶,硫化镉靶材,硫化钼靶,二氧化硅靶,一氧化硅靶,二氧化锆靶,五氧化二铌靶,二氧化钛靶,二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽靶,氟化镁靶,硒化锌靶,氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶材,铌酸锂靶,钛酸镨靶材,钛酸钡靶,钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.备注:CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

       深圳市众诚达应用材料科技有限公司主要生产经营靶材,靶材是一种具有高附加价值的特种电子材料,主要使用在微电子,显示器,存储器以及光学镀膜等产业上,用以溅射用于尖端技术的各种薄膜材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一。用加速的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,这一过种称为溅射。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的源材料,通常称为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高,与基才之间的附着性好。